應(yīng)用與特點(diǎn):
全譜直讀光譜儀采用國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù),采用全數(shù)字化技術(shù),替代龐大的光電倍增管(PMT)模擬技術(shù),與國(guó)際光譜儀技術(shù)同步,采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字化激發(fā)光源、領(lǐng)先的CCD檢測(cè)器、高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng),使儀器具有極高的性能、極低的檢出線、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開(kāi)發(fā)的主要設(shè)備之一。
技術(shù)指標(biāo):
項(xiàng)目指標(biāo):檢測(cè)基體 Fe、Cu、Al、Pb、Zn、Sn、Ni等
檢測(cè)時(shí)間:試樣品類型而定,一般25s左右
光學(xué)系統(tǒng):帕型-龍格羅蘭圓全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
波長(zhǎng)范圍:130~850nm
焦距:400mm
探測(cè)器:高性能CCD陣列
電極:鎢材噴射電極
分析間隙:3.4mm
工作溫度:(10~35)℃
存儲(chǔ)溫度:(0~45)℃
工作濕度:20%~80%
氬氣純度要求:99.999%
氬氣進(jìn)口壓力:0.5MPa
氬氣流量:激發(fā)流量約3.5L/min,維持流量約0.4L/min
激發(fā)**功率:400VA
光源類型:全新可調(diào)節(jié)數(shù)字化光源,高能預(yù)燃技術(shù)(HEPS)
放電頻率:100-1000 Hz
放電電流:**400A
激發(fā)臺(tái)孔徑:13mm
真空系統(tǒng):真空軟件自動(dòng)控制、監(jiān)測(cè)
工作電源:220V AC,50/60Hz,保護(hù)性接地的單相電源
儀器尺寸:725*865*550(mm)
儀器重量:80kg